Проведено розрахунок електронної структури та кінетичних характеристик термометричного матеріалу Hf_1-x Lu_x NiSn у діапазонах: T=80-100K, N^Lu _A≈1.9E20cm^-3 (x=0.01)÷1.9E21см^-3 (x=0.10). Показано, що характеристики матеріалу Hf_1-x Lu_x NiSn є чутливими до зміни температури і він може бути основою для виготовлення чутливих елементів термоперетворювачів.
***The Hf_1-x Lu_x NiSn thermometric material was characterized by the electronic structure calculations and electron transport characteristics in the range: T=80-100K, N^Lu _A≈1.9E20cm^-3 (x=0.01)÷1.9E21cm^-3 (x=0.10). The material is sensitive to the temperature change and could be used as the basis for the sensitive thermoelectric devices.***
Проведен расчет электронной структуры и кинетических характеристик термометрического материала Hf_1-x Lu_x NiSn в диапазонах: T=80-100K, N^Lu _A≈1.9E20cm^-3 (x=0.01)÷1.9E21см^-3 (x=0.10). Показано, что характеристики материала Hf1-xLuxNiSn чувствительны к изменению температуры и он может быть основой для изготовления чувствительных элементов термопреобразователей.
1. Ромака В.А., Ромака В.В., Стадник Ю.В. Інтерметалічні напівпровідники: властивості та застосування (Л., Львівська політехніка, 2011, 488 с.).
2. V.V. Romaka, P. Rogl, L. Romaka, Yu. Stadnyk, A. Grytsiv, O. Lakh, V. Krayovsky. Peculiarites of Structural disorder in Zr- and Hf- Containing Heusler and Half-heusler Stanides // Intermetallics. – 2013. – Vol. 35. – р. 45-52.
3. Геращенко О.А., Гордов А.Н., Еремина А.К., Лах В.И., Луцик Я.Т., Пуцыло В.И., Стаднык Б.И., Ярышев Н.А. Температурные измерения (К., “Наукова думка”, 1989, 704 с.).
4. Schröter M., Ebert H., Akai H., Entel P., Hoffmann E., Reddy G.G. First-principles investigations of atomic disorder effects on magnetic and structural instabilities in transition-metal alloys // Phys. Rev. B. – 1995. – Vol. 52. – P. 188-209.