The photosensitivity of 2-hydroxyethyl methacrylate- polyvinyl pirrolidone- iron salt (ІІІ) compositions with different content of polyvinyl pirrolidone and its influence on the structure and properties of polymerization products is investigated. The results of research make it possible to correct photosensitivity of mentioned compositions and properties of the polymers on their basis depending on changes in the polyvinyl pirrolidone content. Досліджено фоточутливість композицій 2-гідроксіетилметакрилат-полівінілпіро- лідон-сіль заліза (ІІІ) з різним вмістом полівінілпіролідону та її вплив на структуру і властивості продуктів полімеризації. Результати досліджень дають можливість за зміною вмісту полівінілпіролідону коректувати фоточутливість вказаних композицій і властивості полімерів на їх основі.
1. Шибанов В.В. Фотополімеризаційноздатні матеріали. – Львів, 2008 – 215 с. 2. Суберляк О.В., Шекета М.Л. Реакционная способность фоточувствительных поливинилпирролидон. – 2-оксиэтилметакрилатных композиций // Укр. хим. ж-л. – 1993. – № 12. – С. 1325–1329. 3. Шекета М.Л., Суберляк О.В. Закономірності фотополімеризації 2-оксіетилметакрилат-полівінілпіролідонових композицій в розчині // Укр. хім. ж-л. – 2002. – Т. 68. – № 2. – С. 117–120. 4. Суберляк О.В., Шекета М.Л., Левицький В.Є. Полівінілпіролідон-2-гідроксіетилметакрилатні кополімери. Особливості одержання фотополімеризацією з використанням солей металів // Хімічна промисловість України. – 2007. – № 4. – С. 38–41. 5. Калверт Дж., Питтс Дж. Фотохимия. – М.: Мир, 1968. – 671 с. 6. Шекета М.Л., Гриб Т.І. Дослідження впливу умов фотополімеризації на структуру полівінілпіролідон-2-гідроксіетилметакрилатних полімерів // Вісник Нац. ун-ту “Львівська політехіка” Хімія, технологія речовин та їх застосування. – Львів: Вид-во Нац. ун-ту “Львівська політехніка”. – 2009. – № 644. – С. 310–314.